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磁控濺射鍍膜設備

簡要描述：1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。
2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)等組成。
3.該設備主機與控制一體化設計，操控方便；結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小。

  • 所在城市：無錫市
  • 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
  • 更新日期：2024-10-16
  • 訪  問  量：1953

詳細介紹

品牌LEBO/雷博
　　磁控濺射鍍膜設備是一種先進的物理氣相沉積(PVD)技術(shù)，其核心在于利用濺射效應將靶材原子轉(zhuǎn)移到基材表面，從而形成薄膜。濺射效應是指當高能離子撞擊固體表面時，靶材表面原子被擊出并散射的現(xiàn)象。
 
　　在磁控濺射過程中，首先在真空腔體中引入惰性氣體(通常是氬氣)。當高壓電場作用于氣體時，氬氣被電離形成等離子體，這種等離子體由帶正電的離子和自由電子組成。等離子體中的高能氬離子在電場的加速下撞擊靶材表面，導致靶材原子被濺射出來。這些濺射出的原子隨后沉積在基材上，逐層形成所需的薄膜。
 
　　1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。
 
　　2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)等組成。
 
　　3.該設備主機與控制一體化設計，操控方便；結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小。
 
　　4.主要用途：
 
　　1. 開發(fā)納米級單層、多層及復合膜層等。
 
　　2. 制備金屬膜、合金膜、半導體膜、陶瓷膜及介質(zhì)膜等，例：銀、鋁、 銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、氮化鈦、氮化鉻、ITO......
 
　　3. 兩靶單獨濺射、依次濺射、共同濺射。
 
　　5.應用領(lǐng)域：
 
　　1. 高校、科研院所的教學、科研實驗及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實驗及開發(fā)新產(chǎn)品等。
 
　　2. 鈣鈦礦太陽能電池、OLED、OPV 太陽能電池等行業(yè)。
 
 

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